Електронний каталог - ПУЕТ - Пахомов, С. - Второе дыхание 193-нм литографии, или Особенности 32-нм техпроцесса [Текст] - AbsOPAC

Навігатор :

Особистий кабінет:

Електронний каталог: Пахомов, С. - Второе дыхание 193-нм литографии, или Особенности 32-нм техпроцесса [Текст]

Пахомов, С. - Второе дыхание 193-нм литографии, или Особенности 32-нм техпроцесса [Текст]

Второе дыхание 193-нм литографии, или Особенности 32-нм техпроцесса [Текст]

Немає прим.

Статья
Автор: Пахомов, С.
Компьютер пресс. Второе дыхание 193-нм литографии, или Особенности 32-нм техпроцесса [Текст]
б.г.
ISBN відсутній

На полку

Статья

Пахомов, С.
Второе дыхание 193-нм литографии, или Особенности 32-нм техпроцесса [Текст] / С. Пахомов // Компьютер пресс. – 2009. – N3. – С.76-79. – На рус. яз.

загальний = Забезпечення : апаратне
загальний = Технологія : нанотехнологія